平坦化方法(細(xì)化晶粒的方法)
1.細(xì)化晶粒的方法有哪些
細(xì)化晶粒的方法有：降低熔液的澆注溫度、變質(zhì)處理、震動攪拌等方法。
1、增大過冷度可以提高形核率與生長速率的比值，從而使晶粒數(shù)增大，晶粒細(xì)化。 增大過冷度，實際上是提高金屬凝固時的冷卻速度，這可以通過采用吸熱能力強、導(dǎo)熱性能好的鑄型（如金屬型），以及降低熔液的澆注溫度等措施來實現(xiàn)。這種方法對于小型鑄件或薄壁鑄件效果較好，但對于大型鑄件就不合適了。
2、變質(zhì)處理就是向金屬液體中加入一些細(xì)小的形核劑（又稱為孕育劑或變質(zhì)劑），作為非均勻形核的基底，從而使晶核數(shù)大量增加，晶粒顯著細(xì)化。 變質(zhì)處理是工業(yè)生產(chǎn)中廣泛使用的方法。
3、震動、攪拌在澆注和結(jié)晶過程中進(jìn)行機(jī)械振動或攪拌，也可以顯著細(xì)化晶粒。這是因為振動和攪拌能夠向金屬液體中輸入額外能量、增大能量起伏，從而更加有效地提供形核所需要的形核功。
另一方面，振動和攪拌可以使枝晶碎斷，增大晶核數(shù)量 方法有機(jī)械法、電磁法、超聲波法等。
擴(kuò)展資料
影響細(xì)化效果的因素：
1、細(xì)化劑的種類。細(xì)化劑不同，細(xì)化效果也不同。實踐證明，Al-Ti-B比Al-Ti更為有效。
2、細(xì)化劑的用量。一般來說，細(xì)化劑加入越多，細(xì)化效果越好。但細(xì)化劑加入過多易使熔體中金屬間化合物增多并聚集，影響熔體質(zhì)量。因此在滿足晶粒度的前提下，雜質(zhì)元素加入的越少越好。
從包晶反應(yīng)的觀點出發(fā)，為了細(xì)化晶粒，Ti的添加量應(yīng)大于0.15%，但在實際變形鋁合金中，其他組元（如Fe）以及自然夾雜物（如Al2O3）亦參與了形成晶核的作用，一般只加入0.01%-0.06%便足夠了。
2.光學(xué)鏡片都有哪些拋光方法
拋光粉化學(xué)機(jī)械拋光
拋光粉拋光是為了使材料表面達(dá)到平整化的方式。傳統(tǒng)的材料平面化技術(shù)較多，如熱流法、回蝕法、旋轉(zhuǎn)式玻璃法、電子環(huán)繞共振法、低壓CVD、選擇淀積、淀積一腐蝕一淀積、等離子增強CVD等，這些技術(shù)材料平面化工藝發(fā)展中都曾被應(yīng)用，由于這些技術(shù)都屬于材料的局部平面化技術(shù)，為了能達(dá)到全局平面化，使用拋光粉做化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)逐步開始發(fā)展。
在上世紀(jì)的60年代起，使用拋興粉化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)應(yīng)用于硅襯底片的平坦化，從80年代末期開始，CMP大規(guī)模用于集成電路的ULSI拋光，目前的CMP不僅能保證超高平坦化要求，還能減少表面去除量，現(xiàn)在CMP研究的熱門是關(guān)于超薄膜的去除和平坦化。從CMP設(shè)備的發(fā)展來看，最初的CMP機(jī)臺是單頭工作的，且效率較低、自動化程度較差，目前的CMP臺己有多個機(jī)頭，可保證拋光的效率，近期日本的一些公司還研發(fā)了線性拋光機(jī)臺。
使用拋光粉做化學(xué)機(jī)械拋光是一種兼顧化學(xué)拋光和機(jī)械拋光二者優(yōu)點的一種坦化工藝技術(shù)[m-19}CMP過程可簡單歸結(jié)為：在拋光墊和拋光粉的作用下，首先由于拋光粉的化學(xué)作用使材料表面薄層部分被軟化，隨后在拋光粉、拋光墊的機(jī)械作用下將其去除，從而實現(xiàn)工件表面的高速平坦化。整個過程涉及拋光機(jī)臺和拋光消耗品，主要消耗品包括拋光粉和拋光墊，大約占據(jù)CMP總成本的60% o CMP機(jī)理與拋光粉中的化學(xué)分密切相關(guān)，拋光材料影響著CMP拋光速率和表面缺陷。
拋光粉
圖1.2是化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備原理圖，玻璃拋光設(shè)備系統(tǒng)大致由四部分組成：玻璃制品、拋光粉、使拋光粉與玻璃制品相互接觸的拋光臺、使拋光臺對玻璃表面研磨的拋光機(jī)。在拋光玻璃的實際過程中需要考慮很多因素，如玻璃制品、拋光設(shè)備、拋光粉及拋光臺的類型，以及玻璃制品的件數(shù)、拋光的成本、成品的產(chǎn)量和玻璃表面的質(zhì)量等。
拋光機(jī)是CMP技術(shù)的基礎(chǔ)，大多數(shù)的生產(chǎn)型拋光機(jī)臺都有多個拋頭，以適應(yīng)拋光不同材料的需要。在化學(xué)機(jī)械拋光的研究中，拋光粉是由性能優(yōu)良、顆粒均勻、分散性好、硬度適中的磨料及水和一定量的懸浮劑制備的。目前，CeOa多用于玻璃和硅片的拋光，硅片的拋光常用SiOa, CeOa, ZrOa, AlaOs, Ti0：等或它們的復(fù)合粉體。
拋光墊是在CMP過程中決定拋光速率和平坦化能力的重要消耗品之一，為了能與磨料發(fā)揮更好的作用，拋光墊通常具有一定的機(jī)械特性和多孔吸水的特性，拋光墊中的小孔能幫助傳輸磨料和提高拋光均勻性。拋光墊主要有三個基本類型：聚氨脂拋光墊、無紡布拋光墊、絨毛結(jié)構(gòu)拋光墊。
3.中國鹽堿地改良辦法有哪幾種
一、排水
對地勢低洼的鹽堿地塊，通過挖排水溝，排出地面水可以帶走部分土壤鹽分。
二、灌水洗鹽
根據(jù)“鹽隨水來，鹽隨水去”的規(guī)律，把水灌到地里，在地面形成一定深度的水層，使土壤中的鹽分充分溶解，再從排水溝把溶解的鹽分排走，從而降低土壤的含鹽量。
三、種植水稻
在水源充足的鹽堿地種水稻也是一項可以有效的改良措施。因為種植水稻后，一般田間要經(jīng)常保持水層，土壤含水量處于飽和狀態(tài)，在相同的土壤含鹽量情況下，水田中的鹽分濃度較旱田低，因此，通過長時間淹灌和排水換水，土壤中的鹽分就可以被淋洗和排出。
四、增施有機(jī)肥或土壤調(diào)理劑金利
嘉美金利能增加土壤的有機(jī)質(zhì)，促進(jìn)團(tuán)粒結(jié)構(gòu)的形成，改良鹽堿土的通氣、透水和養(yǎng)料狀況，能顯著調(diào)節(jié)土壤的酸堿度到適宜作物生長的范圍。
五、深耕深松
對鹽堿地深耕深松，加深耕層，能加速淋鹽，防止返鹽，增強保墑抗旱能力，改良土壤的養(yǎng)分狀況。深耕應(yīng)注意不要把暗堿翻到地表。
六、客土壓堿
客土就是換土。客土能改善鹽堿地的物理性質(zhì)，有抑鹽、淋鹽、壓堿和增加土壤肥力的作用，可使土壤含鹽量降低到不致危害作物生長的程度。俗話說：“砂壓堿，賽金板”就是這個道理。
七、合理種植
在鹽堿地上種植作物，要根據(jù)作物對鹽堿、旱、澇的適應(yīng)性能，因地種植，合理布局。充分發(fā)揮農(nóng)業(yè)增產(chǎn)潛力。向日葵、谷類、甜菜、大麥等為耐鹽堿性較強的作物，有較高的細(xì)胞滲透壓，在較高的鹽分溶液中也可以吸收足夠的水分，不致引起生理干旱造成死亡。
擴(kuò)展資料
鹽堿地可以分為輕鹽堿地、中度鹽堿地和重鹽堿地。輕鹽堿地是指它的出苗率在70%—80%，它含鹽量在千分之三以下；重鹽堿地是指它的含鹽量超過千分之六，出苗率低于50%。
中度鹽堿地（用pH值表示為：輕度鹽堿地pH值為：7.1—8.5，中度鹽堿地pH值為：8.5—9.5，重度鹽堿地pH值為：9.5以上）。
我國鹽堿土分布區(qū)是根據(jù)它的土壤類型和氣候條件變化決定的，分為濱海鹽漬區(qū)、黃淮海平原鹽漬區(qū)、荒漠及荒漠草原鹽漬區(qū)、草原鹽漬區(qū)四個大類型。
各種鹽堿土都是在一定的自然條件下形成的，其形成的實質(zhì)主要是各種易溶性鹽類在地面作水平方向與垂直方向的重新分配，從而使鹽分在集鹽地區(qū)的土壤表層逐漸積聚起來。
主要形成原因有：
1、氣候條件
在我國東北、西北、華北的干旱、半干旱地區(qū)，降水量小，蒸發(fā)量大，溶解在水中的鹽分容易在土壤表層積聚。
夏季雨水多而集中，大量可溶性鹽隨水滲到下層或流走，這就是“脫鹽”季節(jié)；春季地表水分蒸發(fā)強烈，地下水中的鹽分隨毛管水上升而聚集在土壤表層，這是主要的“返鹽”季節(jié)。
東北、華北、半干旱地區(qū)的鹽堿土有明顯的“脫鹽”“返鹽”季節(jié)，而西北地區(qū)，由于降水量很少，土壤鹽分的季節(jié)性變化不明顯。
2、地理條件
地形部位高低對鹽堿土的形成影響很大，地形高低直接影響地表水和地下水的運動，也就與鹽分的移動和積聚有密切關(guān)系，從大地形看，水溶性鹽隨水從高處向低處移動，在低洼地帶積聚。
鹽堿土主要分布在內(nèi)陸盆地、山間洼地和平坦排水不暢的平原區(qū)，如松遼平原。從小地形（局部范圍內(nèi)）來看，土壤積鹽情況與大地形正相反，鹽分往往積聚在局部的小凸處。
3、土壤質(zhì)地和地下水
質(zhì)地粗細(xì)可影響土壤毛管水運動的速度與高度，一般來說，壤質(zhì)土毛管水上升速度較快，高度也高，砂土和粘土積鹽均慢些。
地下水影響土壤鹽堿的關(guān)鍵問題是地下水位的高低及地下水礦化度的大小，地下水位高，礦化度大，容易積鹽。
參考資料來源：百度百科-鹽堿地
4.環(huán)氧地坪漆有什么選擇方法
為了匡助使用地坪裝飾保護(hù)涂料的顧客準(zhǔn)確地選擇地坪的種類和有效控制建設(shè)本錢，建議顧客最好從以下幾個因素入手： 一、機(jī)械機(jī)能方面： 1. 耐磨性：地坪在使用時會有哪些車輛行走。
2. 耐壓性：地坪在使用時會承受多大荷載。 3. 耐沖擊性：沖擊力是否會引起地坪面剝離。
二、化學(xué)機(jī)能要求方面： 1. 耐酸堿性：使用時侵蝕性化學(xué)物質(zhì)的種類及濃度。 2. 耐溶劑性：使用時溶劑類型及接觸時間。
三、樓層位置狀況 根據(jù)地坪是在地下樓層仍是地面樓層的位置，確定是否需要防潮處理或選擇特殊防潮地坪。 四、基面狀況 1、要求水泥基面牢固、結(jié)子、不起殼，杜絕砂漿起殼現(xiàn)象，最好混凝土層與砂漿找平層一起澆注；假如先搗混凝土層，則要求砂漿層的厚度不低于 4cm ，叉車道則要求更厚一些； 2、要求表面不起砂，硬度好，沒有水泥粉化現(xiàn)象。
要求 A 、優(yōu)質(zhì)水泥； B 、新倒水泥砂漿層要充分保養(yǎng)； 3、水泥基面平坦、無凸凹不平、蜂窩麻面、水泥疙瘩； 4、要求地面平整性不大于涂裝要求厚度（用 3 米直尺平靠）； 5、表面干燥，含水量小于 6 ， 保持地面干燥無油污，切記水泥地面保養(yǎng)期過后進(jìn)場施工前 5 天，不能用水沖刷或拖把拖地； 6、地坪表面的 PH 值應(yīng)在 6.0~8.0 ; 7、地面無油污、其他油漆、乳膠漆、泡泡糖等殘渣； 8、坡度應(yīng)符合設(shè)計要求，答應(yīng)偏差值為坡度的 2% ，并且不大于 30mm 。
